畫廊名稱:國泰世華藝術中心
籌備者:國泰世華藝術中心
創作者:紀宗仁、廖本生、史唯婕、江宇(馮慧中)、廖迎晰
展場地點:國泰世華藝術中心
展場類型:畫廊
時間:2017-02-11~2017-03-18
展覽類型:聯展
描述:2017年02月11日至2017年03月18日,國泰世華藝術中心舉辦「向度.多為──紀宗仁、廖本生、史唯婕、江宇、廖迎晰」。
物件編號:TW_0097_00095
引文:《藝術家》2017.02、03
物件類型: 畫廊年表
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