畫廊名稱：大未來畫廊
籌備者：ARCO Madrid Organising Committee
創作者：林鉅、高重黎、洪東祿
展場地點：Parque Ferial Juan Carlos I Madrid(Glorieta de Don Juan de Borbon, 28042 Madrid)
展場類型：展覽館
展覽類型：藝博會
描述：2002年02月14至2002年02月19日，大未來畫廊參加ARCO Madrid Organising Committee舉辦「ARCO Madrid 2002國際畫廊博覽會 ——切割邊緣」。
物件編號：TW_0901_00139
引文：大未來林舍畫廊官網
物件類型： 畫廊年表
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