切割邊緣 —— ARCO'02 INTERNATIONAL CONTEMPORARY ART FAIR 2002

畫廊名稱：大未來畫廊

籌備者：IFEMA

創作者：林鉅、高重黎、洪東祿

展場地點： 馬德里．ARCO 拱之大展

展場類型：展覽館

時間：2002-02-14~2002-02-19

展覽類型：藝博會

描述：2002年02月14至2002年02月19日，大未來畫廊參加IFEMA舉辦「 ARCO'02 INTERNATIONAL CONTEMPORARY ART FAIR 2002」。

物件編號：TW_0901_00139

引文：《藝術家》官網2002.02

引文：大未來林舍畫廊官網

物件類型： 畫廊年表